アップ・テック・ジャパンは高純度ガス精製装置、環境・ガス分析装置、半導体製造関連装置・材料等の輸入販売を行っています。

関連情報
高純度ガス精製装置 環境・ガス分析装置 産業機器関連・先端材料 関連情報 技術資料集

ガス精製器によるランニングコスト削減のご提案

モノトールPhaseⅡ受賞

エピタキシャル

アンモニア精製の進歩

パーツについて一部製造中止のお知らせ

品番統合のご案内

ガス精製器によるランニングコスト削減の
ご提案

GC用キャリアガスヘリウムの調達でお困りのお客様、超高純度ガスをご利用のお客様へ、ガス精製器によるランニングコスト削減のご提案を致します。
ランニングコスト削減にサエス・ピュアガス社製ガス精製器をお役立てください。

ガス精製器によるランニングコスト削減のご提案

詳細情報


モノトールPhaseⅡ‘96受賞

モノトールPhaseⅡが1996年セミコンダクタインターナショナルのエディターズチョイスベストプロダクト賞を受賞しました。
これは導入以来、モノトールPhaseⅡの効果に満足されているユーザーによって推薦され、 最終的にサエス・ピュア・ガスが提出した資料とアワード委員会のインタビューに基づき決定されました。

エディターズチョイス


クリスタルリサーチアンドテクノロジー

クリスタル リサーチ アンド テクノロジー掲載
Managing gas purity in epitaxial growth
エピタキシャル成長における管理ガス純度

Keywords:
MOVPE;Epitaxy;Purification
Abstract
The development of high brightness LEDs is being studied worldwide due to the expectation to replace present light sources because of the higher efficiency and estimated lifetime. The deposition of the epitaxial layers is the most critical step of the LED manufacturing process and has to be carried-out in well controlled conditions to get the necessary uniformity of the epitaxial layers and the proper cleanliness. The most common technology to grow the epitaxial layers is MOVPE, a technology that requires a large quantity of gas to transport the precursors into the process reactor. Control of the cleanliness of the gases used during the process (hydrogen, ammonia, arsine, etc) is necessary to obtain highly efficient and reproducible devices. However, even the use of the cleanest gas source cannot avoid the introduction of impurities when the gas is used in the process reactor. In fact there are several causes that can degrade the actual purity level: the degree of emptiness of the source cylinder, improper procedures during the change out of the cylinder or outgassing from the components in the gas distribution system. These effects can be even worse in research centers where the gas consumption is low and not continuous. A common way to get rid of the above mentioned problems is the adoption of point of use purifiers. Results showing the improvements in the gas quality by adopting point of use purifiers will be presented and discussed. The differences between some widely used hydrogen purification technologies in the compound semiconductor applications will also be evaluated. (© 2011 WILEY-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim)

【Crystal Research and Technology www.crt-journal.org】
Reference : August 2011Vol. 46, Issue 8 Pages 809-812


セミコンダクタ トゥデイ掲載
Advances in Ammonia Purification
アンモニア精製の進歩

サエス・ピュア・ガス社が自社の改良されたアンモニアガス精製装置の役割について概説しています。この使用により窒化化合物半導体LED製造時に、不純物やばらつきをなくし、LED特性の改善が期待されます。

【Semiconductor Today www.semiconductor-today.com】
Reference :November 2012,Vol.7,Issue 9,Compounds & Advanced Silicon
掲載先:SAES Pure Gas, Inc.

パーツについて一部製造中止のお知らせ

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品番統合のお知らせ

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